Sistem Pemendapan Wap Kimia (CVD)
Sistem Pemendapan Wap Kimia (Foto 8.11) digunakan secara meluas dalam teknologi pemprosesan bahan. Aplikasi utamanya adalah dalam penyalutan permukaan; dalam industri fabrikasi wafer silikon dan juga modifikasi filem nipis. Ekoran kepelbagaian aplikasinya, penggunaan sistem CVD boleh dikembangkan untuk memendapkan lapisan monomer dan glisidil metakrilat (GMA) ke atas gentian kenaf menggunakan teknik pencangkukan aruhan sinaran.
Sistem Pemendapan Wap Kimia (CVD)
Untuk maklumat lanjut, sila layari SISPA.